佳能推出半導體創新解決方案 可生產2nm的半導體

作者：Amaka Nwaokocha，Cointelegraph; 編譯：松雪，金色財經

以印表機和相機聞名的日本公司佳能於10月13日推出了一項創新解決方案，旨在幫助生產尖端半導體元件。

根據CNBC的報導，佳能最近引入的「納米壓印光刻」系統代表了該公司對荷蘭公司ASML的競爭性回應，ASML是極紫外（EUV）光刻機領域的主要力量。 ASML的設備對於生產尖端晶元至關重要，包括用於最新的蘋果iPhone的晶片。

這些光刻機的利用已被捲入了美國和中國之間的技術衝突。 美國通過出口限制和各種制裁，旨在阻礙中國獲得關鍵晶元和製造設備，妨礙了世界第二大經濟體在這一領域的進展。

ASML 的 EUV 技術因其在 5 奈米及以下半導體生產中的關鍵作用而受到領先晶片製造商的廣泛關注。 這種納米測量涉及晶元特徵的尺寸，較小的值可容納晶片上的更多特徵，從而提高半導體性能。

據報導，佳能宣佈其新系統 FPA-1200NZ2C 可以生產匹配 5nm 工藝的半導體，並可縮小至 2nm，超越了蘋果 iPhone 15 Pro 和 Pro Max 中的 A17 Pro 晶片（3nm 半導體）的能力。

荷蘭政府對 ASML 實施限制，阻止其 EUV 光刻機出口到中國。 由於這些機器在尖端半導體晶元的生產中發揮著關鍵作用，因此存在這種限制。

隨著佳能聲稱他們的新機器可以促進生產等同於2奈米的半導體，因此它很可能會面臨更多的審查和關注。

早些時候有報導稱，拜登政府正在關注一個漏洞，該漏洞中，中國開發商可以從華強北電子區購買晶元。

然而，中國已經發佈了針對提供生成人工智慧（AI）服務的公司的安全法規草案，其中包括對用於人工智慧模型訓練的數據源的限制。